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首页 > High-NA EUV光刻机

High-NA EUV光刻机

2025
03-13

5000亿韩元!三星已拿下首台High-NA EUV光刻机 NEW

zhiyongz 三星 围观609次 0 条评论
5000亿韩元!三星已拿下首台High-NA EUV光刻机快科技3月13日消息,据韩国媒体报道,三星电子已于本月初在其华城园区引入首台ASML生产的High-NA EUV光刻机——EXE:5000,价值高达5000亿韩元(约合24.88亿元人民币)。ASML是目前全球唯一能够提供此类设备的供应商,其通过增大透镜和反射镜尺寸,将数值孔径(NA)从0.33提升至0.55,显著提高了光刻精度,是2nm及以下制程的必备工具。与现有EUV设备相比,High-NA EUV能够实现更窄的电路线宽,从而降低功耗并提升数据处理速度。三星电子计划在完成... Read More >
三星 High-NA EUV光刻机
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