202509-08 全国首个MOR核心技术 国产EUV光刻胶启动 NEW 快科技9月8日消息,EUV光刻机是制造5nm以下工艺的关键设备,同样重要的还有EUV光刻胶,现在无锡宣布国内首个掌握EUV光刻胶核心技术的平台启动了。来自无锡政府网站的消息,9月4日2025集成电路(无锡)创新发展大会开幕。本次大会上宣布了多个重磅项目,除了算力平台外,还有2个值得关注的——无锡先进制程半导体纳米级光刻胶中试线作为全国首个掌握MOR型光刻胶核心原材料、配方及应用技术的创新平台,其研发生产的光刻胶将对标世界一流水准。另一个则是江苏(集萃)光刻胶树脂合成中试线是全... Read More >